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pvd真空镀膜与您分享电子束蒸发

电子束蒸发是将镀膜材料放入水冷铜坩埚中，用高能密度的电子束轰击镀膜材料而使其蒸发的一种方法。蒸发源由电子发射源、电子加速电源、坩埚(通常是铜坩埚)磁场线圈、冷却水套等组成。在该装置中，被加热的物质放置于水冷的坩埚中，电子束只轰击其中很少的一部分物质，其余的大部分物质在坩埚的冷却作用下一直处于很低的温度，pvd真空镀膜厂，可以看作被击部分的坩埚。因此，电子束加热蒸发的方法可以避免镀膜材料和蒸发源材料之间的污染。

电子束蒸发源的结构形式可以分为直式(布尔斯)、环形(电偏转)和e形(磁偏转)3种。在一个蒸发装置内可以安置一个或者多个坩埚，这可以同时或者分别蒸发沉积多种不同物质。电子束蒸发源有下述优点:

1、电子束轰击蒸发源的束流密度高，pvd真空镀膜工艺参数，能获得远比电阻加热源的能量密度，可以蒸发高熔点材料，如w，mo，a1203等:

2、镀膜材料置于水冷铜坩埚中，可以避免发源 材料的蒸发，以及两者之间的反应;

3、热量可以直接加到镀膜材料的表面，使得热，热传导和热辐射的损失少.电子束加热蒸发方式的缺点是电子发出的一次电子和镀膜材料表面发出的二次电子会使蒸发原子和残余气体分子电离，这有时候会影响膜层。

由于超声波在传递过程中会产生低压区和高压区，并且气穴现象只在低压区发生。所以被清洗工件在超声波中需要上下振动，使工件上的每个区域都经过低压区以获得“微型刷子”的清洁作用。超声波在水中的传递速度为1500m/s，假设超声渡的频率为30000hz，则所使用的超声渡波长

λ=速度／频率=1500／30000=0.05m=5cm

所以，如使用30000hz的超声波，工件的上下振动距离应不小于5厘米．对于其他频率的超声波．震动距离可以同理计算出来。在纯粹的化学药剂浸泡清洗中，清洗溶液首先溶解工件表层的污染物，并逐渐向污染层内部渗透溶解，在这个过程中，在工件表层会逐渐形成一层溶解饱和层．这层饱和层将新鲜的化学清洗液与深层的污染物隔离，汉口pvd真空镀膜，阻碍清洗液对深层污染物的继续溶解，如果这层饱和层不能被破坏去掉，清洁就停止了。对于比较脏的工件，纯粹的浸泡清洗方式很难将工件清洁干净。利用超声波的“微型刷子”的作用就可以破坏掉表层的溶解饱和层，新的化学药剂到达较深的污染层继续溶解，超声波接着继续破坏掉新形成的溶解饱和层，如此循环，清洁不断进行下去，直到工件被清洁干净。